AMOD PVD平台

该PVD平台开始允许更大的室投射距离,以及适应更多过程增强的能力

基板固定和屏蔽选项


您的Amod拥有500mm x 500mm的底板,可容纳多达10种来源和各种PVD工艺。 您的研究目标,生产需求和/或应用程序的最终目标将告诉您如何装备您的Amod。 我们共同合作,设计出完全符合您要求的系统。


一个紧凑,经济,全面的PVD工作

本视频概述了我们与合作伙伴密切合作提供技术解决方案的一个实例

点击此处下载Amod PDF手册

与他们的客户的服务水平和连接性,一天中的任何时间回答你的电子邮件,帮助你从远方拍摄麻烦,超出了我以前见过的。 这种互动使得我成为一个难以置信的客户。


凯西史密斯博士 - 德克萨斯州立大学


溅射

RF,DC,脉冲DC和HiPIM

圆形,线性和圆柱形阴极可用



沉积源选项

电子束蒸发

各种源电源和电源选项

可编程扫描控制器配方存储





电子束蒸发

各种源电源和电源选项

可编程扫描控制器配方存储

扭矩传感坩埚分度器检测到卡纸

房间内有多个电子束源






等离子和离子束加工

用于清洁和电影增强的离子源范围

辉光放电等离子体清洗







加热和冷却阶段

可变角度阶段

滚动加工

加载锁

掩蔽/基板自动传送

行货运动

AERES高级过程控制软件


易于使用的高级集成软件平台


PC / PLC控制的单,批或自动过程的配方


高级数据记录和过程跟踪确保一致和可重复的过程



高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂比



中央控制站管理每个模块并安排每个舱室的过程



独立控制多个室(如果适用)




复杂的食谱可以轻松创建和修改






自动PID控制回路调整可显着缩短过程开发时间






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