沉积技术

薄膜沉积包括与衬底上生长层材料相关联的许多技术,其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由一组工程师量身定制,以满足每个客户的需求,并且能够整合以下任何(或全部):

飞溅沉积

等离子体中包含的高能粒子的影响从目标材料的表面喷出原子,然后将其凝结在衬底的表面上以产生薄膜。


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电子束蒸发

灯丝发射磁化聚焦的高能量束,其被扫掠在沉积材料的坩埚内。


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电阻式热蒸发

使用电流来加热丝,其又将沉积材料加热到蒸发点。


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发光薄膜控制

Apex是我们的光学控制包,可以集成到我们的PVD平台中。


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GLOVE BOX INTEGRATION

允许在受控环境中连接PVD和非PVD工艺。


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可变角度阶段

通过这种新颖的过程增强进入第三维。


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离子辅助沉积

宽束离子源通常具有溅射或电子束源,将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。


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过程增强技术

。您的沉积平台可提供许多不同的增强功能。


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