沉积技术

薄膜沉积包括与衬底上生长层材料相关联的许多技术，其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由一组工程师量身定制，以满足每个客户的需求，并且能够整合以下任何（或全部）：

飞溅沉积

等离子体中包含的高能粒子的影响从目标材料的表面喷出原子，然后将其凝结在衬底的表面上以产生薄膜。

电子束蒸发

灯丝发射磁化聚焦的高能量束，其被扫掠在沉积材料的坩埚内。

电阻式热蒸发

使用电流来加热丝，其又将沉积材料加热到蒸发点。

发光薄膜控制

Apex是我们的光学控制包，可以集成到我们的PVD平台中。

GLOVE BOX INTEGRATION

允许在受控环境中连接PVD和非PVD工艺。

可变角度阶段

通过这种新颖的过程增强进入第三维。

离子辅助沉积

宽束离子源通常具有溅射或电子束源，将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。

过程增强技术

。您的沉积平台可提供许多不同的增强功能。