沉积技术

薄膜沉积包括与衬底上生长层材料相关联的许多技术，其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由一组工程师量身定制，以满足每个客户的需求，并且能够整合以下任何（或全部）：

溅射沉积

等离子体中包含的高能粒子的影响从目标材料的表面喷出原子，然后将其凝结在衬底的表面上以产生薄膜。

电子束蒸发

利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转化为热能，使镀膜材料融化并蒸发成膜。

电阻式热蒸发

使用电流来加热材料，使其达到蒸发点熔融并沉积到基片上。

发光薄膜控制

Apex是我们的光学控制包，可以集成到我们的PVD平台中。

集成手套箱

集成手套箱，将在惰性气氛环境中完成PVD镀膜工艺。

可变角度样品台

通过这种新颖的过程增强进入第三维。可同时实现样品台的自转，公转及倾斜功能。

离子辅助沉积

宽束离子源通常具有溅射或电子束源，将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。可实现基片的清洗及辅助镀膜。

过程增强技术

您所定制的沉积平台可扩展多种不同的增强功能，满足多样化需求。