沉积技术

薄膜沉积包括与衬底上生长层材料相关联的许多技术,其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由一组工程师量身定制,以满足每个客户的需求,并且能够整合以下任何(或全部):

溅射沉积

等离子体中包含的高能粒子的影响从目标材料的表面喷出原子,然后将其凝结在衬底的表面上以产生薄膜。


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电子束蒸发

利用加速电子轰击镀膜材料,电子的动能转化为热能,使镀膜材料融化并蒸发成膜。


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电阻式热蒸发

使用电流来加热材料,使其达到蒸发点熔融并沉积到基片上。


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发光薄膜控制

Apex是我们的光学控制包,可以集成到我们的PVD平台中。


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集成手套箱

集成手套箱,将在惰性气氛环境中完成PVD镀膜工艺。


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可变角度样品台

通过这种新颖的过程增强进入第三维。可同时实现样品台的自转,公转及倾斜功能。


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离子辅助沉积

宽束离子源通常具有溅射或电子束源,将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。可实现基片的清洗及辅助镀膜。


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过程增强技术

您所定制的沉积平台可扩展多种不同的增强功能,满足多样化需求。


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