EVOVAC PVD平台

这个PVD平台可以做任何你需要的东西。 它有一个大的室,可以配备您需要的任何来源或过程增强。 它是我们最可定制的单室平台,因此它可以配备特定应用的工具,或者可以成为适用于实验室中各种独特用户的多功能多源沉积工作。

基板固定和屏蔽选项


。EvoVac拥有500mm x 700mm底板,可容纳多达14种来源和多种PVD工艺。 您的研究目标,生产需求和/或应用程序的最终目标将告诉您如何装备您的EvoVac。 我们共同合作,设计出完全符合您要求的系统。


任何可能的

这个PVD平台

本视频概述了我们与合作伙伴密切合作提供技术解决方案的一个实例

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EvoVac设计非常棒,手套箱端口易于使用。 去年,这一天用了2269个小时,每天平均每天超过6小时。 它是我们设施中使用最多的设备,对许多研究项目至关重要。 因此,停机时间最小化至关重要。 支持Angstrom Engineering提供的服务问题是卓越的,无与伦比的。 如果我收到了Angstrom为我们工厂的其他仪器提供的客户支持,我的工作将会更加轻松。


伊萨马丁博士 - 西西大学


溅射

RF,DC,脉冲DC和HiPIM

圆形,线性和圆柱形阴极可用



沉积源选项

电子束蒸发

各种源电源和电源选项

可编程扫描控制器配方存储





电子束蒸发

各种源电源和电源选项

可编程扫描控制器配方存储

扭矩传感坩埚分度器检测到卡纸

房间内有多个电子束源






等离子和离子束加工

用于清洁和电影增强的离子源范围

辉光放电等离子体清洗







加热和冷却阶段

可变角度阶段

滚动加工

加载锁

掩蔽/基板自动传送

行货运动

AERES高级过程控制软件


易于使用的高级集成软件平台


PC / PLC控制的单,批或自动过程的配方


高级数据记录和过程跟踪确保一致和可重复的过程



高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂比



中央控制站管理每个模块并安排每个舱室的过程



独立控制多个室(如果适用)




复杂的食谱可以轻松创建和修改






自动PID控制回路调整可显着缩短过程开发时间






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