飞溅沉积

使用溅射的沉积系统可以做出令人难以置信的事情。我们的合作伙伴之一使用他们的溅射工具来制造银纳米颗粒,进入医用乳膏和绷带,因为银纳米颗粒已经证明了抗菌和抗炎性质。我们为我们的合作伙伴创造的技术与我们的工程系统感到自豪,使这个世界向前发展。溅射仅仅是存放材料的一种方法,但它是创建接触层的理想选择,它们用于显示技术,下一代照明技术如OLED和光学。


溅射如何工作?通过在溅射过程中产生强磁场或电场,在等离子体中产生的离子和电子被限制在更接近源极的指定区域。这导致离子和中性气体分子之间的更多的碰撞,这产生了甚至更多的离子与目标碰撞并喷射材料。该过程导致更高的沉积速率。与其他类型的溅射相比,磁控管溅射还有助于减少对薄膜的任何损害,因为磁场有助于电子行进特定的路线,而不会轰击衬底。


磁控溅射可用于产生具有增加粘合力的非常致密的膜涂层。 由磁控溅射产生的涂层由于来自目标的喷射材料的能量较高而增加了膜密度。

溅射是PVD涂层技术。 在此过程中,惰性气体原子被送入低于10毫乇的相对压力水平的高真空环境中。 一旦惰性气体原子离子化,产生气体样气氛,就会使它们与目标物碰撞。 这就是使原子能够朝向基板喷射,之后它们会凝结并形成薄膜。 该过程继续将目标材料的新层引入衬底。


在诸如塑料,陶瓷和金属之类的衬底上沉积材料的许多方法中,由于其可扩展性和沉积各种材料的能力,溅射是最常用的之一。


我们可以配置系统以支持几种类型的溅射沉积,例如RF溅射,DC溅射和脉冲DC溅射。 这些沉积方法中的每一种使用工艺溅射气体,其通常是惰性气体,如氩气,其中添加反应性气体用于某些过程。 溅射沉积的其他形式包括离子束溅射,反应溅射,离子辅助溅射,高目标利用溅射,气流溅射,大功率磁控溅射和面对靶溅射。 具体配置的源使得诸如Fe,Ni和Co之类的溅射磁性材料更容易,并且支持目标厚度的增加。

我们已经创建了许多将磁控溅射作为沉积源的系统。 在较大的室内,我们可以放置几个溅射源,以及电子束和热阻源。 我们的合作伙伴使用我们的溅射系统来创建各种接触层,从医学上使用的接触层到夜视眼镜。 我们拥有使用我们的溅射系统的合作伙伴,采用透明导电层(TCO)溅射技术,创造了OLED TV每个人都想要的家庭状态,我们有许多合作伙伴使用相同的技术来研究世界各地实验室的有机光伏。

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