过程增强技术

基板温度控制



改进的晶界迁移,后处理退火和控制表面反应只是基板温度控制应用的样本。 对于您的加热或冷却应用,我们有几个标准选项,以及为您的基板和温度范围定制解决方案的能力。

行货运动



我们的行星台夹具可以改善大量基板的均匀性。 通常为我们的Amod和EvoVac线路保留,行星夹具可以大大提高系统吞吐量。

我们的组合楔形快门系统提供单个或多个行和/或列在更大的衬底区域内或衬底阵列内的受控曝光。 除了您的舞台灯具,您可以在单个工艺批次中执行层或掺杂剂变化,使其成为非常有价值的材料和工艺开发工具。 我们的客户还使用此功能在基板上创建梯度和阶梯膜。 这个功能可以添加到我们的许多舞台灯具。

组合快门



偏置



如果您正在寻求控制胶片密度或改善附着力,偏差可能是您的工艺的解决方案。 埃斯特工程公司可以配置许多阶段来包括直流或射频偏置。

基板清洁



通过离子束或辉光放电进行原位清洁,可确保您的基底准备沉积。 为了去除天然氧化物或残留油,请考虑为系统添加清洁过程。

我们的Angstrom系统大大增加了我们的有机光伏器件制造工艺的可重复性,并为整个开发新器件提供了灵活而强大的系统。


博士Sean Shaheen博士 - 科罗拉多大学


视频:旋转基板

视频:均匀盾牌演示

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