LPCVD

设计和制造以满足石墨烯和CNT研究的高温和快速冷却要求,Angstrom的LPCVD(低压化学气相沉积)系统将很好地适应您的实验室。

反应堆


 我们设计了一个水冷却炉,可在10分钟内达到1100°C,并在短短2分钟内将其冷却至800°C以下。 控制石墨烯生长得到保证,加工时间保持在最低限度。 在ØØ2in和Ø8in之间提供各种腔室管尺寸,可将单个小样品加工成6英寸晶圆批次。

您需要研究和利用石墨和碳纳米管的工具

Ø50mm-Ø200mm石英管腔

需要的各种尺寸的可互换石英管

适用于150mm x 150mm的单个或多个基材

上游法兰与气体歧管快速连接

下游端法兰具有快速连接到泵送和测量


温度/压力控制


单区石英灯炉,6寸均匀温度区

自动调谐功能提供非常稳定的温度控制

在10分钟内快速加热至1100°C

在2分钟内从1100°C快速冷却至800°C

下游压力控制100mTorr至500Torr使用节流增值税蝶阀

多达12个质量流量控制器


AERES高级过程控制软件


易于使用的高级集成软件平台

PC / PLC控制的单,批或自动过程的配方

高级数据记录和过程跟踪确保一致和可重复的过程

高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂比

中央控制站管理每个模块并安排每个舱室的过程

独立控制多个室(适用于集群或连接配置)

复杂的食谱可以轻松创建和修改

自动PID控制回路调整可显着缩短过程开发时间



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从实际出货的时间开始,这个实验室系统几乎完美无缺,可以说是将我们的能力扩展到世界上任何有机薄膜实验室目前可以实现的能力之上。 我将整个系统的成功归功于卓越的工程设计,以及Angstrom团队的合作性,在采用我们最好的设计并使其在系统构建过程中更好。


密歇根大学Stephen Forrest博士


操作和安全


安全电路(硬件和软件)

易燃气体传感器(H2)

封闭框架和安全防护

PC / PLC控制器,包括基于Windows的配方和控制软件

可编辑的配方,数据记录和密码保护的访问控制


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