离子辅助沉积

在离子辅助沉积(IAD)中,离子源将具有一定范围的离子能量的分散束引向衬底。 该源通常与溅射或电子束源一起工作。 可以使用诸如氩气的惰性气体。 或者,如果期望在膜生长期间进一步的化学反应,则可以使用诸如氧和氮的反应性气体。 IAD工艺允许通过表面反应,膜密度控制和改进的附着力进行高级工艺膜生长。


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Scott Watkins博士 - CSIRO - 澳大利亚墨尔本


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