系统

由Angstrom Engineering生产的PVD(物理气相沉积),CVD(化学气相沉积)和其他真空系统适用于各种应用,包括薄膜沉积研究,2D材料生长,如石墨烯和纳米管,工业涂料,OLED ,光伏和钙钛矿研究。 其他产品涵盖了环境模拟等设备的应用。

团簇设备系列

半自动 /全自动集群



这种大型可多样配置的多腔室系列具有全自动机械手和自动化控制功能,可以在不破坏真空的情况下实现连续不间断的多腔室之间的蒸镀。 这些选项和配置很多,包括快速,可靠和可重复的进程。 各种自动化控制及高精度的工艺控制,大大提高了薄膜制备的效率。

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COVAP PVD平台




 Covap是我们最紧凑和最经济的PVD设备,适用于许多工艺应用。 尤其适合热蒸发制备金属薄膜。很容易适应您的实验室以及您的预算。 基板最大尺寸:100mm x 100mm

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NEXDEP PVD平台




紧凑,经济,功能齐全的PVD主打型号。 节省空间,可实现多种形式的PVD镀膜,包括热蒸发、电子束蒸发及磁控溅射。 样品台最大尺寸6英寸。 机柜尺寸:600mm x 1000mm

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AMOD PVD平台




蒸镀腔室大小适中。  Amod腔室尺寸居于EvoVac和Nexdep之间。 Amod功能更加强大,为您提供更高端的选择。 基板最大尺寸:200mm x 200mm  机柜尺寸1600mmx1000mm

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EVOVAC PVD平台




标准型号中的最大腔室,可集成多种PVD镀膜方式及更多的蒸发源布置。 Evovac是我们最有能力的单室PVD平台。 它为多个沉积源提供了最大的室,并且可以按照用户的要求进行多种定制化的生产。。 基板最大尺寸:200mm x 200mm  机柜尺寸1600mmx1000mm

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BOX COATERS




定制化的超大蒸镀腔室,但抽真空的时间非常快。 这些可靠的设备,都可以根据您需要的腔室尺寸和批量生产能力的要求来进行配置。充分满足不同用户的需求。

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线性磁控溅射设备




该系统具有巨大的矩形溅射源,可以自动批量处理大量的基片。

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LPCVD




空间模拟




植物生长




我们的低压化学气相沉积(LPCVD)系统旨在满足石墨烯和CNT研究的高温要求。

我们的系列环境空间模拟系统,充分满足研究人员和航空工程师在发射前,模拟各种气氛和温度下测试设备的需求。

我们的系列受控植物生长系统允许生物学家创造各种压力环境进行研究的能力。

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